申請人將撰寫完成的發(fā)明的申請文件提交到國家知識產(chǎn)權(quán)局以后，在該發(fā)明授權(quán)或駁回前，申請人可以依照《專利法》以及《專利法實施細則》的規(guī)定，對該發(fā)明的申請文件進行修改。申請人對申請文件的修改中，以對權(quán)利要求的修改為重點。下面結(jié)合一個實例，淺談筆者對權(quán)利要求修改的一點見解。 　　一、案例描述 申請人所提交的發(fā)明的申請文件中，獨立權(quán)利要求1請求保護技術(shù)方案A，權(quán)利要求2是權(quán)利要求1的從屬權(quán)利要求，權(quán)利要求2請求保護技術(shù)方案B，但是技術(shù)方案A與技術(shù)方案B是兩個相互獨立的并列的技術(shù)方案，因此，實質(zhì)上權(quán)利要求2并不能作為權(quán)利要求1的從屬權(quán)利要求。 當(dāng)發(fā)明的申請文件的權(quán)利要求出現(xiàn)上述缺陷時，一般情況下，常見的一種修改方式為，對技術(shù)方案A和技術(shù)方案B進行上位，獲得一個能夠涵蓋技術(shù)方案A和技術(shù)方案B的一個技術(shù)方案C，將技術(shù)方案C作為新的獨立權(quán)利要求，將保護技術(shù)方案A的權(quán)利要求和保護技術(shù)方案B的權(quán)利要求，分別作為該新的獨立權(quán)利要求的從屬權(quán)利要求。 上述修改方式是否被允許呢？筆者在下述內(nèi)容中主要依據(jù)兩個法條進行詳細闡述，第一，專利法第33條的規(guī)定；第二，專利法實施細則的第51條的規(guī)定。 　　二、依據(jù)專利法第33條的規(guī)定進行闡述 專利法第33條規(guī)定：申請人可以對其專利申請文件進行修改，但是，對發(fā)明和實用新型專利申請文件的修改不得超出原說明書和權(quán)利要求書記載的范圍，對外觀設(shè)計專利申請文件的修改不得超出原圖片或者照片表示的范圍。 因此，在對發(fā)明的申請文件的權(quán)利要求進行修改時，修改后的權(quán)利要求需要符合專利法第33條的規(guī)定，即修改后的權(quán)利要求不能超出原說明書和權(quán)利要求書所記載的范圍。 那么，怎么判斷修改后的權(quán)利要求是否符合專利法第33條的規(guī)定呢？《專利審查指南》2010版第二部分第八章5.2.1.1中明確說明：“原說明書和權(quán)利要求書記載的范圍包括原說明書和權(quán)利要求書文字記載的內(nèi)容和根據(jù)原說明書和權(quán)利要求書文字記載的內(nèi)容以及說明書附圖能直接地、毫無疑義地確定的內(nèi)容”。也就是說，修改后的權(quán)利要求若想滿足專利法第33條的規(guī)定，則需滿足下述兩個條件中的任意一個即可： 第一個條件，修改后的權(quán)利要求在原說明書和權(quán)利要求書中有明確的文字記載； 第二個條件，修改后的權(quán)利要求在原說明書和權(quán)利要求書中雖然沒有明確的文字記載，但是，可以根據(jù)原說明書和權(quán)利要求書文字記載的內(nèi)容以及說明書附圖能直接地、毫無疑義地確定。